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  光亮退火爐是一種新型換熱設(shè)備。光亮退火爐是在半導(dǎo)體器件制造中使用的一種工藝，其包括加熱多個半導(dǎo)體晶片以影響其電性能。熱處理是針對不同的效果而設(shè)計的。可以加熱晶片以激活摻雜劑，將薄膜轉(zhuǎn)換成薄膜或?qū)⒈∧まD(zhuǎn)換成晶片襯底界面，使致密沉積的薄膜，改變生長的薄膜的狀態(tài)，修復(fù)注入的損傷，移動摻雜劑或?qū)�摻雜劑從一個薄膜轉(zhuǎn)移到另一個薄膜或從薄膜進(jìn)入晶圓襯底。加熱方式有電加熱、燃油、燃?xì)�、燃煤、熱風(fēng)循環(huán)。

光亮退火爐的用途： 

1、能夠有效的改善鋼鐵在鑄造、鍛壓、軋制或者是焊接過程中所造成的缺陷和殘余應(yīng)力，能夠防止工件的變形和開裂。

2、光亮退火爐作用還可以對軟化工件以便進(jìn)行切削和加工。

3、將晶粒細(xì)化，改善組織來提高工件的機(jī)械的性能。

4、可以為最終的淬火、回火點(diǎn)步驟的熱處理做好準(zhǔn)備。